6.4 全領域背景媒質の使い方

■入力データ: fullspace1.oth, fullspace2.oth

全領域背景媒質(キーワード"fullspace")は、 平面波入射において平面波が伝搬する媒質を真空以外に設定する機能です。
全領域背景媒質を使用するには、最初に全領域を誘電体で埋め、その後任意の物体を配置します。
図1と図2に全領域背景媒質を使用しないモデルと使用したモデルの電界分布を示します。
電磁界のスケール則により両者は等価になります。

図1 電界分布(全領域背景媒質なし、周囲の比誘電率=1、中心の比誘電率=2、3.0GHz)

図2 電界分布(全領域背景媒質あり、周囲の比誘電率=4、中心の比誘電率=8、1.5GHz)